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Product Center當前位置:首頁產(chǎn)品中心實驗室氣體配比器氣體液體配比器流量計液體氣體混合配比器
液體氣體混合配比器 用于對氣體的質(zhì)量流量進行精密測量;質(zhì)量流量控制器(Mass Flow Controller縮寫為MFC)用于對氣體的質(zhì)量流量進行精密測量和控制。 它們在半導體微電子工業(yè)、特種材料研制、化學工業(yè)、石油工業(yè)、醫(yī)藥、環(huán)保和真空等多種領域的科研和生產(chǎn)中有著重要的應用。其典型的應用場合包括; 電子工藝設備,如擴散、氧化、外延、CVD、等
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產(chǎn)品種類 | 質(zhì)量式 | 介質(zhì)分類 | 氣體 |
產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應用領域 | 電子 |
液體氣體混合配比器(Mass Flow Meter 縮寫為MFM)用于對氣體的質(zhì)量流量進行精密測量;質(zhì)量流量控制器(Mass Flow Controller縮寫為MFC)用于對氣體的質(zhì)量流量進行精密測量和控制。
它們在半導體微電子工業(yè)、特種材料研制、化學工業(yè)、石油工業(yè)、醫(yī)藥、環(huán)保和真空等多種領域的科研和生產(chǎn)中有著重要的應用。其典型的應用場合包括; 電子工藝設備,如擴散、氧化、外延、CVD、等離子刻蝕、濺射、離子注入;以及真空鍍膜設備、光纖熔煉、微反應裝置、混氣配氣系統(tǒng)、毛細管測量、氣相色譜儀及其它分析儀器。
概覽
液體氣體混合配比器(MFC)和氣體質(zhì)量流量計(MFM)用于對氣體的質(zhì)量流量進行 精密控制和測量。它們在半導體集成電路工藝、特種材料、化學工業(yè)、石油工業(yè)、醫(yī)藥、環(huán) 保和真空等多種領域的科研和生產(chǎn)中有著重要的應用。其典型的應用場合包括: 集成電路工 藝設備,如外延爐、擴散爐、CVD、等離子刻蝕機、濺射臺、離子注入機; 以及鍍膜設備、 光纖熔煉設備、微反應裝置、混氣配氣系統(tǒng)、氣體取樣裝置、毛細管測量儀、氣相色譜儀及 其它分析儀器。
CS200-A,C,D 型 MFC/ MFM 是七星電子生產(chǎn)的數(shù)字型產(chǎn)品,為氣體質(zhì)量流量的控制、 測量提供了高準確度及高可靠性。該型產(chǎn)品可同時支持數(shù)字信號,0~5V 模擬信號,4~20mA 或 0~20mA 模擬信號,可以使用雙電源(±8~±16 VDC)或單電源(+14~+28 VDC)。支持自動故障報警,多氣體多量程等功能。標準開放的通訊協(xié)議為客戶自行開發(fā)控制、采集軟件 提供便利。提供功能強大的免費客戶端上位機軟件 Digital MFC。CS200-C 與 CS200-D 產(chǎn)品所有與氣體接觸的表面均為不銹鋼金屬,其中 CS200-C 金屬表面符合 SEMI 標準的要求。
CS200-A,C,D MFC 默認配置為:
MAC 地址:32;
RS485 通信波特率:19200;
控制方式:0~5V 電壓控制。
更多細節(jié)請參考產(chǎn)品附帶光盤中的“CS 系列 MFC 通訊協(xié)議"。
標定
CS200-A,C,D MFC/MFM 可以按照用戶的要求來標定。如果用戶沒有說明工作情況等信息,
則按照標準狀況標定。
1、標準狀況
出口壓力:大氣壓
氣體質(zhì)量流量通常用標準狀態(tài)下的體積流量來表示,質(zhì)量流量單位為:
SCCM:標準毫升/分鐘
SLM:標準升/分鐘
標準狀態(tài):溫度 0°C (273.15K)
氣壓:101325Pa (760mm Hg)
在標準狀態(tài)下,氣體的密度是一個常數(shù),該密度乘以標準狀態(tài)下的體積就是質(zhì)量數(shù),所以標準狀態(tài)下的體積流量就等同于質(zhì)量流量。
MFC/MFM 的標準安裝位置為水平安裝,同時為客戶提供垂直(進氣口向上或向下)、平躺及其它位置的安裝,為保證的測量精度,用戶購買時應該說明設備的安裝方式。
2、制造環(huán)境
CS200-A,C,D 型 MFC/ MFM 是在溫度為 22±2°C的 100 級的凈化間內(nèi)組裝,1000 級凈化環(huán)境下標定及包裝。
3、精度調(diào)節(jié)
CS200-A,C,D 型 MFC/MFM 在制造完成后都要在相應的標定臺上烤機 24 小時,然后進行精確標定。精度、動態(tài)響應、壓力變化的穩(wěn)定性等指標須經(jīng)過兩次檢查,合格后方可出廠